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竊取一張藍圖,坐牢三十年:南韓 73 年來首次改寫的間諜法明天生效

9 月 13 日,南韓 73 年來首次大幅改寫的刑法第 98 條之 2 正式生效——間諜罪不再限於北韓受益,擴及任何外國或同等組織,法院最高可判 30 年。目標直指中國對三星與 SK 海力士工程師的挖角行動。

竊取一張藍圖,坐牢三十年:南韓 73 年來首次改寫的間諜法明天生效

明天——2026 年 9 月 13 日——全球半導體產業最重大的法律變革之一悄然生效。南韓修正後的刑法第 98 條之 2(Article 98-2),即該國 73 年來首次大幅改寫的間諜法條,將間諜罪的適用範圍從「受益於北韓」擴大到「受益於任何外國或同等組織」。法院從此可以對將敏感技術輸往海外者判處最高 30 年有期徒刑。繼二月法案通過後數個月的報導,英國《金融時報》、Bloomberg 與《日本時報》本週聚焦的問題是:生效日究竟意味著什麼。答案是——南韓正在把竊取晶片技術知識,從一種商業犯罪,重新定義為國安犯罪。

一部凍結在 1953 年的法律,為晶片戰爭解凍

舊的第 98 條是為一個處於熱戰狀態的半島所寫。它處罰的是為「敵國」從事的間諜行為,而南韓法院向來將「敵國」一致解釋為北韓、僅止於北韓。這個凍結的定義,在產業史上最嚴重的技術外洩案件中製造了一個荒謬結局:在指標性的 CXMT 案中,一位前三星電子工程師——法院文件中僅以姓氏「全」稱呼,他在韓國晶片巨頭任職 28 年後,於 2016 年前後加入中國最大 DRAM 製造商長鑫存儲(CXMT)——自始至終沒有被以間諜罪起訴。檢方只能動用工業技術保護法與營業秘密相關法條,因為那是僅有的工具。

案情細節解釋了為什麼刑期上限如此重要。全姓工程師在離職前,以手抄方式逐項記錄了三星 DRAM 生產流程超過 600 道工序——檢方證實,這種方法是刻意為之,用來繞過三星會記錄並警示電子檔案傳輸的數位防洩漏系統。那些手寫筆記包含精確的設備規格、生產排序與良率優化技術。法院認定遭竊資料屬於法定「國家核心技術」,判處全姓工程師七年徒刑,並認定這次洩漏給了 CXMT 提前量,使其先進記憶體產品的問世時間遠早於自主研發的可能時程。利用這批贓物,CXMT 於 2023 年達成量產級 10nm DRAM——史上第一家做到的中國公司。首爾另有一場針對十名前三星員工涉嫌將技術移交 CXMT 的審判正在進行。

在本週之前的法律框架下,這些行為與一般商業營業秘密侵權屬於同一法律類別。從明天起,同樣的事實可以被以間諜罪起訴。

這部法律要止住的外流血

立法者引用的數字說明這是系統性問題,而非零星事件。2020 年至 2026 年 6 月間,33 件國家核心技術案與 110 件產業技術案被移轉至海外,估計損害超過 23 兆韓元(約 168 億美元)。檢方估計,僅三星一家在 2024 年因整波洩密系列就損失約 5 兆韓元(約 36.6 億美元)營收。

對一個出口導向經濟體而言,這是存亡等級的賭注。三星掌握全球 DRAM 產能的 38%,SK 海力士占 25%——兩者合計近三分之二的全球供應,而這正是每一顆 AI 加速器賴以運作的記憶體;SK 海力士更在輝達 GPU 旁堆疊的高頻寬記憶體(HBM)市場握有過半份額。據報導,去年海外技術外洩案件超過一半涉及中國,而中國晶片商挖角資深 DRAM 工程師的條件,據稱高達韓國市場薪資的三倍。

面對這種報酬結構,威嚇力幾乎不存在。根據韓國立法辯論中引用的統計草稿,國內產業技術犯罪的有罪者中,約每兩人就有一人獲緩刑——徒刑一天都不用坐。法定最低三年、加上擲硬幣般的緩刑機率,對上單次成功移轉就可能高達九位數美元的報酬,這不是威嚇,這是營業成本。

但有個陷阱:盟友也在打擊範圍內

9 月 13 日生效的修正案帶著一個產業界已開始大聲警告的結構性摩擦:新的第 98 條之 2 所稱的「外國」,涵蓋盟邦與敵國。一位把專有 DRAM 製程資料帶到美國、日本或歐洲雇主的韓國工程師,從明天起與把資料帶到深圳的工程師適用同一部法律。

國防出口商已將此列為迫切疑慮:他們的商業模式建立在把敏感技術知識移轉給夥伴政府與盟邦國防承包商之上。全北大學國防產業專家張元俊(Jang Won-joon,音譯)教授本週警告,刑事風險如今必須逐項技術管理——透過政府核准與內部控制——而不能假設一紙合約就能解決。尚志大學軍事學系崔基一(Choi Gi-il,音譯)教授肯定更強的威嚇框架是對有組織、國家級技術竊取的應有回應,但也指出明顯極限:一旦技術已依政府間協議交付,國內刑法無法約束外國國家或企業。

法條核心還有一個未解的法律問題。第 98 條之 2 涵蓋「外國或同等組織」——但沒有明文點名外國企業。法院是否會把「同等組織」寬鬆解讀到足以涵蓋 CXMT 這類國家支持的公司,將決定這部法律實際上有多少牙齒。產業界法律顧問目前預期法院會採取從嚴解讀。

已經在排隊的加嚴法案

這個缺口正是 8 月 31 日由國民力量黨議員高東鎮(Go Dong-jin)提出之法案的目標——他是前三星電子社長,如今代表首爾江南區(三星總部所在地)進入國會。他的修正案要把間諜罪的最低刑期從三年提高到十年,明文新增「為外國企業利益行事」作為處罰事由,並把保護標的從國家機密擴大到政府指定的「國家核心技術」——先進半導體製程、顯示器技術與次世代電池設計。這個方向與美國《經濟間諜法》對齊(為外國政府利益竊取營業秘密最高可判 15 年),也對應美國國會 2025 年提出的、針對列名敵對勢力設定十年強制最低刑期的法案。

政治局面則是糾結的:國民力量黨當初對 2 月 26 日的原始修正案發動過 filibuster(冗長辯論阻撓),如今強化法案卻出自同一政黨,而國會多數掌握在對立的民主黨手中。與此同時,產業通商資源部已啟動 2026 年技術保護輔導與安全基礎設施支援計畫——在法案表決之前,行政部門已先行對齊方向。

為什麼這件事不止於韓國

對 AI 產業而言,這部法律傳達的訊息是:打造所有模型底層記憶體的人們,如今用核武國家對待武器設計圖的態度,對待自己的製程知識。AI 建設潮讓 DRAM 與 HBM 的集中度變成雙方的戰略弱點:對首爾,是要用刑法守護的皇冠寶石;對北京,是要用一切手段——包括三倍薪資挖角與手抄藍圖——打通的瓶頸。

接下來有兩個觀察點。第一,第一件真正以第 98 條之 2 起訴「企業受益者」(而非政府)的案件,將定義這部法律的實際射程——而它很可能出自已在首爾法院進行中的 CXMT 案件管線。第二,如果高東鎮的十年最低刑期法案推進,預期跨國晶片雇主將重組韓國工程師參與全球研發計畫的方式,國防出口商也將要求更明確的政府核准豁免。半導體知識隨著持有它的人自由移動、幾乎無人管制的時代,明天早上在首爾畫下句點。